2009上海信博會明春召開 |
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IT時報記者 郝俊慧 明年3月17日—19日，“2009年上海國際信息化博覽會”(以下簡稱2009信博會)將在上海新國際博覽中心和上海國際展覽中心同時舉行。這是迄今為止全國最大的IT專業展覽會，用以展示信息產業和技術成果、促進信息產業和技術交易。 2008信博會首次將國際半導體設備與材料展(SEMI)、慕尼黑上海電子展和中國國際電子電路展覽會(CPCA)三個成員展“並路”展出，取得瞭不錯的成績，因此2009年的信博會進一步嘗試引入新成員——上海國際信息化技術與應用展覽會，預計總面積將逾13萬平方米，專業觀眾超過10萬人次。 每年信博會上，聚焦半導體技術革新亮點的SEMI都會給人以驚喜，今年它帶來的是“光刻”。所謂“光刻”，是指電路設計者采用先進設計軟件來產生器件藍圖，這些信息然後傳遞到光刻版圖形發生器。圖形發生器采用電子束或激光束，根據這些信息在覆蓋有光刻膠的基版上畫出圖形，然後基版再去顯影，刻蝕從而生產出光刻版。屆時，通過現場展示、新品發佈、技術探討，全面展示該項技術的發展歷程和前景。另外，在SEMI中，還將有一座“太陽能主題館”，展示太陽能光伏技術產業鏈。CPCA則把重點放在印制電路板、電子制造服務、電子組裝的設備、公益、技術等一系列最前沿的技術和最新產品。 |
2014年3月20日星期四
2009上海信博會明春召開
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